在电磁场（电磁波）中，导体表面将吸收并失去电磁场中的能量，因此电磁场从导体表面到内部呈指数衰减（即电场和磁场的振幅呈指数衰减）。这种现象称为趋肤效应。利用集肤效应可以防止高频电磁波进入导体，从而达到电磁屏蔽膜的目的。因此，电磁屏蔽膜罩可以由适当厚度的金属材料制成。由于趋势电流是涡流，电磁屏蔽膜也称为涡流屏蔽。

   为了达到有效的电磁屏蔽膜效果，导体的屏蔽厚度需要接近电磁场的趋肤深度。材料的导电性越强，表皮深度越小。当广播频率为500khz时，铜和铝的局部表皮深度分别约为0.094mm和0.12mm，这使得较薄的铜或铝的屏蔽效果更好；对于更高频率的电磁场，可以使用更薄的材料。

   在高频电磁场中，通常不使用铁磁材料，因为铁磁材料具有较大的磁滞损耗和涡流损耗，这将降低谐振电路的品质因数（Q值）。因此，使用更多高导电性的电磁屏蔽膜材料。

   由于铜和铝的电磁屏蔽膜不再适用于铜和铝的电磁屏蔽膜，如果用铁做屏蔽罩，因为铁中的电磁场衰减比铜和铝快得多，所以只需要更薄的铁片。事实上，此时它已成为静磁屏蔽。

   电磁屏蔽膜和静电屏蔽有一些共同点，即它们是由高导电性金属制成的。区别在于静电屏蔽只能消除电容耦合，防止静电感应的影响，屏蔽罩需要对地；电磁屏蔽膜利用涡流防止电磁场的渗透，消除电磁场的干扰。屏蔽盖不必接地。但是，由于电磁屏蔽膜增加了静电耦合，为了避免这种不利影响，将屏蔽接地。此时，它在起到电磁屏蔽膜的同时也起到了静电屏蔽的作用。

   导电布在电磁屏蔽膜方面具有优势。导电布通常由极薄的铜和镍金属层镀在化纤布底座上。因此，导电布具有很强的电磁屏蔽膜性，薄而柔韧，可以附着在其他材料上。

   电磁屏蔽膜原理如下：

   当电磁波传播到屏蔽材料表面时，它通过三种不同的机制衰减：

1） 屏蔽材料外表面阻抗失配引起的电磁波反射损耗；

2） 屏蔽材料吸收到材料中的电磁波的衰减；

3） 屏蔽材料内部的多次反射衰减。

   当进行反射损耗时，屏蔽材料具有可在磁场中自由移动且需要具有良好导电性的载流子；屏蔽材料在吸收和衰减时有大量的电偶极子或磁偶极子，需要高的电磁损耗、高的磁导率和合适的介电常数；当进行多次反射衰减时，屏蔽材料中的多孔结构可以大大提高多次反射和多次散射的次数，从而有效地提高电磁屏蔽膜屏蔽性能。