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2024

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行业新知 | 数字光处理(DLP)和低温烧结制备碳化硅陶瓷

作者:


近日,山东理工大学Shuang Li带领的团队在《Ceramics International》发表了题Silicon carbide ceramics manufactured by digital light processing and low temperature sintering的研究,通过数字光处理(DLP)技术和低温液相烧结法制造碳化硅陶瓷。探讨了使用DLP技术打印碳化硅陶瓷的可行性,特别是通过在碳化硅浆料中添加氧化铝(Al₂O₃)和氧化钇(Y₂O₃)作为烧结助剂,以降低烧结温度并提高陶瓷的致密度和机械性能。

原文链接:https://doi.org/10.1016/j.ceramint.2024.07.076
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研究内容

碳化硅(SiC)陶瓷具有优异的机械、热和化学性能,因此在航空航天和能源相关领域中备受关注。然而,传统制造碳化硅陶瓷的方法存在一些问题,如制造复杂形状的结构困难、烧结温度高以及容易产生缺陷。

DLP是一种基于光聚合的3D打印技术,通过紫外线(UV)照射使光敏树脂固化成型,但由于碳化硅颗粒的深色和高吸光率,容易影响光固化深度,导致打印难度增加。此外,碳化硅陶瓷的烧结温度通常高达2500°C,而本文通过引入Al₂O₃和Y₂O₃等氧化物烧结助剂,采用液相烧结法,成功将烧结温度降低。

本文研究的核心目标是通过DLP技术和液相烧结制造SiC陶瓷,并研究烧结温度对其致密度、孔隙结构和机械性能的影响。具体包括:

  1. 开发适用于DLP的碳化硅光敏浆料,并优化浆料的光固化性能。

  2. 优化烧结工艺,通过使用氧化铝和氧化钇助剂降低烧结温度,改善陶瓷的致密化。

  3. 评估材料的微观结构和力学性能,分析不同烧结温度对其强度、密度和孔隙率的影响。

△图1,DLP生产碳化硅陶瓷的实验工艺。

△图2,(a)坯体的TG-DSC曲线,(b)SiC浆料的粘度随剪切速率的增加而变化。

△图3,(a)不同曝光参数下SiC感光浆料的固化深度,(b)陶瓷部件的3D模型,(c)带有连通通道的打印部件。

△图4,陶瓷的层间微观结构:(a)1300℃,(b)1350℃,(c)1400℃,(d)1450℃。

△图5,陶瓷内部微观结构:(a)1300℃,(b)1350℃,(c)1400℃,(d)1450℃。

△图6,不同温度下烧结时微观结构评估示意图。

△图7,1350℃烧结陶瓷的元素分布:(a)SEM图,(b)所有元素的完整性图,(c)Si元素,(d)O元素,(e)Y元素,(f)C元素,(g)Al元素,(h)选定区域的EDS图案。

△图8,不同烧结温度下碳化硅陶瓷的收缩率(a)和体积密度(b)的变化。

△图9,不同烧结温度下陶瓷的孔隙特征:(a)孔径分布,(b)不同温度下的平均孔径及孔隙率。

△图10,(a) 不同烧结温度下陶瓷的抗弯强度,(b) 陶瓷的孔隙率与平均孔径的关系,(c) 与已发表文献中LPS SiC陶瓷的比较。

 

结论

在本研究中,利用数字光处理(DLP)技术和液相烧结工艺,结合Al₂O₃–Y₂O₃添加剂作为烧结助剂,制备了碳化硅(SiC)陶瓷。Al₂O₃–Y₂O₃添加剂的引入增强了光敏SiC浆料的稳定性和固化能力,使得所打印的部件具备良好的完整性、精度和表面质量。随着温度的升高,由于液相的熔化和渗透,陶瓷变得更加均匀和致密。随着胚体的收缩,SiC陶瓷的体密度从1.78g/cm³增加到2.33g/cm³,孔隙率则从50.21%降低至35.09%。由于微观结构的这种演变,材料的抗弯强度从41.0MPa提高到62.8 MPa。因此,Al₂O₃–Y₂O₃烧结助剂的引入不仅能够提高SiC浆料的固化性能,还加速了打印部件的致密化,并修复了烧结体中的微观缺陷。

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